中文字字幕精品码_午夜无码免费视频一区二区_国产a∨天天免费观看美女 w_亚洲国产成人手机在线观看

Shandong XinTai Water Treatment Co,.Ltd.

Top-Quality Manufacturer In Water Treatment Industry

中文

NEWS

膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用

2009/4/14

    一、純水在電子元器件生產(chǎn)中的作用
      純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。
      在電器電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含奇有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯象管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產(chǎn)一個晶體管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1。
    表1 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)

    項目單位 電阻率MΩ·cm(25t) 細(xì)菌個/ml 微粒個/ml TOC
    mg/L
    Na+
    μg/L
    K+
    μg/L
    Cu
    μg/L
    Fe
    μg/L
    Zn
    μg/L
    黑白顯像管
    彩色顯像管
    液晶顯示器
    ≥5
    ≥5
    ≥5
    ≤5
    ≤1
    ≤1
    ≤10(φ>0.5μ)
    ≤10(φ>1μ)
    ≤10(φ>1μ)
    ≤0.5
    ≤0.5
    ≤ 1
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤8
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10
    ≤10

      在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會使P型半導(dǎo)體特性惡化[2],水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3],水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸咐在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表2。
    表2 集成電路(DRAM)對純水水質(zhì)的要求[4][5][6]

    集成電路(DRAM)集成度 16K 64K 256K 1M 4M 16M
    相鄰線距 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5
    微粒 直徑(μm) 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05
    個數(shù)(PCS/ml) <100 <100 <20 <20 <10 <10
    細(xì)菌(CFU/100ML) <100 <50 <10 <5 <1 <0.5
    電阻率(μs/cm,25℃) >16 >17 >17.5 >18 >18 >18.2
    TOC(ppb) <1000 <500 <100 <50 <30 <10
    DO(ppb) <500 <200 <100 <80 <50 <10
    Na+(ppb) <1 <1 <0.8 <0.5 <0.1 <0.1

    二、膜技術(shù)在純水制造中的應(yīng)用
      純水制造中應(yīng)用的膜技術(shù)主要有電滲析(ED)、反滲透(RO)、納濾(NF)、超濾(UF)、微濾(MF),其工作原理、作用等見表3
    表3 純水制造中常用的膜技術(shù)

    膜組件名稱 ED RO NF UF MF
    微孔孔徑   5-50埃 15-85埃 50-1000埃 0.03-100μm
    工作原理 離子選擇透過性 2.優(yōu)先吸-毛細(xì)管理論
    3.氫鏈理論
    4.擴(kuò)散理論
    同左 濾膜篩濾作用 同左
    作用 去除無機(jī)鹽離子 去除無機(jī)鹽離子,以及有機(jī)物,微生物、膠體、熱源、病毒等  去除二價、三價離子,M>100的有機(jī)物,以及微生物,膠體,熱源、病毒等 去除懸濁物、膠體以及M>6000的有機(jī)物 去除懸濁物
    組件形式 膜堆式 大多為卷式,少量為中空纖維 同左 大多為中空纖維,少量為卷式 摺迭濾筒式
    工作壓力(Mpa) 0.03-0.3 1-4 0.5-1.5 0.1-0.5 0.05-0.5
    水回收率(%) 50-80 50-75 50-85 90-95 100
    使用壽命(年) 3-8 3-5 3-5 35 3-6個月
    水站位置 除鹽工序 除鹽工序 1.除鹽工序
    2.RO前的軟化
    大多為純水站終端精處理,少數(shù)RO前的預(yù)處理 1.RO、NF、UF前的保安過濾(3-10μm)2、離子交換濾除樹脂碎片(1μm)
    3.UV后濾除細(xì)菌死體(0.2或0.45μm)
    4.純水站終端過濾(0.03-0.45μm)

      與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比,膜技術(shù)具有工藝簡單、操作方便、易于自動控制、能耗小、無污染、去除雜質(zhì)效率高、運(yùn)行成本低等優(yōu)點,特別是幾種膜技術(shù)的配合使用,再輔之經(jīng)其他水處理工藝,如石英砂、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等,為去除水中的各種雜質(zhì),滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對高純水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù),才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水,才能生產(chǎn)出大規(guī)模、超大規(guī)模、甚大規(guī)模集成電路(LSI、VLSI、ULSI),從而使計算機(jī)、雷達(dá)、通訊、自動控制等現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展和應(yīng)用得以實現(xiàn)。值得一提的是:當(dāng)原水的含鹽量大于400mg/L時,純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后,比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿90%左右,使離子交換柱的周期產(chǎn)水量提高10倍左右[7],事實證明,可以降低純水制造的運(yùn)行費用和制水成本,可以減少工人的勞動強(qiáng)度,可以減少對環(huán)境的污染,并可使純水水質(zhì)得到提高并長期穩(wěn)定。據(jù)統(tǒng)計,在我國電子工業(yè)引進(jìn)的純水制造系統(tǒng)中,有RO的約占系統(tǒng)總數(shù)的90%,有UF的約占20%,有MF的幾乎為100%[8],而ED在我國國產(chǎn)的純水系統(tǒng)特別是早期投產(chǎn)的純水系統(tǒng),以及為數(shù)眾多的對純水水質(zhì)要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)制造廠的純水系統(tǒng)中占有相當(dāng)?shù)谋壤?BR>
    三、微電子工廠純水站使用膜技術(shù)實況
      
    現(xiàn)以某微電子工廠中的某一純水站使用膜技術(shù)的實況,說明膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用。其純水制造系統(tǒng)工藝流程見圖1。
      1.前級UF
      前級UF是用于去除水中的懸濁物、膠體及有機(jī)物,降低水的SDO值,確保RO的安全運(yùn)行。前級UF在5組,每組45根組件,共225根組件,進(jìn)水280m3/h,透過水250m3/h,濃縮水排放,回收率約90%。UF組件為美國Romicon公司,型號HF-BZ-20-PM80,組件直徑5in,長43in,內(nèi)壓式中空纖維膜,纖維直徑20min(0.51mm),共有2940根纖維,膜面積132ft2,膜材料為PS(聚砜),截留分子量8萬。UF前采用5μm保安過濾器。
      2.一級RO
      水中加入還原劑Na2SO3(加藥量為水中余氯值的1.8倍)以防止余氯腐蝕RO膜,加入防垢劑(NaPO3)6(加藥量為5PPm)以防止CaCO3 、CaSO4 等在RO膜上結(jié)垢,再經(jīng)5μm保安過濾器后由高壓泵打進(jìn)一級RO。一級RO有4組,均為二段。其中三組為每組8根膜容器,呈(5+3)排列,第4組為11根膜容器,呈(8+3)排列,膜容器由FRP(玻璃鋼)制成,每根內(nèi)裝6個RO元件,總共為210個RO元件,進(jìn)水250 m3/h,透過水188 m3/h,濃縮水排放,回收率為75%,脫鹽率>90%(初始脫鹽率>99%),操作壓力1.55Mpa。RO元件為美國HYDRANAUTICS(海德能)公司生產(chǎn),型號CPA3。元件直徑8in,長40in,卷式膜,膜面積400ft2,膜材料為芳香聚酰復(fù)合膜,元件脫鹽率≥99.5%
      3.二級RO
      一級RO水箱出水中一部分進(jìn)入A系統(tǒng),先加NaOH(CP級)調(diào)節(jié)pH為8.2-8.6,使水中CO2生成HCO3,被二級RO除去,以減輕混床離子交換的負(fù)擔(dān),采用二級RO可以使混床再生周期延長一倍,減少再生酸堿耗量,并可進(jìn)一步去除TOC和膠體物質(zhì)。二級RO前采用3μm保安過濾器,二級RO為一組三段,共10根膜容器,按(6+3+1)排列,每根容器內(nèi)裝6只RO元件,共60只RO元件,進(jìn)水70 m3/h,出水62 m3/h,濃水排至超濾水箱,回收率為90%,脫鹽率>70%(初始脫鹽率>80%),RO元件的生產(chǎn)廠、型號一級RO相同。
      4.后級UF
      后級UF是用于去除水中的微粒、微生物、膠體、有機(jī)物等的終端過濾設(shè)備。
      A系統(tǒng)后級UF為3組,每組18支,共54支組件,進(jìn)水92m3/h,出水90 m3/h,濃水排至一級RO水箱,回收率約98%。UF組件為美國Romicon公司生產(chǎn),型號HF-132-20-PM10,組件直徑5in,長43in,內(nèi)壓式中空纖維膜,纖維直徑20min(0.5mm),共有2940根纖維,膜面積132ft2,膜材料為PS(聚砜),截留分子量1萬。
      B系統(tǒng)后級UF有3支組件,進(jìn)水168m3/h,出水164 m3/h,回收率約98%,UF組件制造廠及型號與A系統(tǒng)后級UF相同。
      C系統(tǒng)后級UF有3支組件,進(jìn)水4m3/h,出水3.9 m3/h,回收率98%,UF元件為美國HYDRANAUTICS公司生產(chǎn),型號4040-FTV-2120,組件3.94 min,長40 in,卷式膜,膜面積55ft2,膜材料為聚烯烴,截留分子量5萬。
      5.微濾
      本系統(tǒng)的微濾可分為三類,第一類為前級UF、RO前的保安過濾器,用于支除水中的的懸濁物微粒,降低水中的SDI值,濾芯為PP(聚丙烯)膜摺迭式濾芯,孔徑為5μm或3μm。第二類在離子交換后,用于濾除離子交換樹脂碎片,濾芯為PP膜摺迭式濾芯,孔徑為1μm。第三類在UV殺菌器后,用于濾除微生物尸體,濾芯為N-6(尼龍6)膜摺迭式濾芯,孔徑為0.45μm或0.2μm。以上濾芯均為核工業(yè)部第八研究所生產(chǎn)。
    除上述水站外,該廠還有另幾套高純水制造系統(tǒng),RO除使用復(fù)合膜元件外,還有使用CA醋酸纖維素膜元件。

    詳情請點擊:http://www.jdscl.com/wzshow.asp?id=23

    上一條:生活飲用水水源水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

    下一條:含油污泥來源與處理方法綜述

CONTACT Us

    Address: Zhongtai Industrial Park ,Xiwangzhuang Town, Shizhong District, Zaozhuang City, Shandong Province, P.R.C
    Plant Size: Small and Medium-sized
    EXP TEL:0086-632-3461088
    FAX:0086-632-3461077
    E-mail:sales1@xintaiwater.com
    xintaiwater@163.com
    Name: Jin Tsui
Baidu